Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/170161Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Uglov, V. V. | - |
| dc.contributor.author | Astashynskaya, M. V. | - |
| dc.contributor.author | Kuleshov, A. K. | - |
| dc.contributor.author | Samtsov, M. P. | - |
| dc.contributor.author | Barna, P. B. | - |
| dc.date.accessioned | 2017-04-04T13:46:50Z | - |
| dc.date.available | 2017-04-04T13:46:50Z | - |
| dc.date.issued | 2011 | - |
| dc.identifier.citation | Journal of Surface Investigation. X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques. - 2011. - Vol. 5, No. 4. - Pp. 791–795. | ru |
| dc.identifier.issn | 1027-4510 | - |
| dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/170161 | - |
| dc.description.abstract | The results of structure research of thin-film nickel–carbon hydrogenated composites formed by the method of the combination of plasma-enhanced chemical vapor deposition of carbon from mixture of reactive gases (Ar + CH4) and physical sputtering of the nickel target are presented. It has been established in the study of composites by transmission electron microscopy that the microstructure of thin-film composites changed from fragmenting columnar to finely dispersed with increase in carbon concentration | ru |
| dc.language.iso | en | ru |
| dc.publisher | Pleiades Publishing, Ltd | ru |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | ru |
| dc.title | Structure of Thin-Film Nickel-Carbon Composites Formed by Microwave Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition | ru |
| dc.type | journal article | ru |
| Располагается в коллекциях: | Статьи сотрудников НИИ ПФП | |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 791-795.pdf | 943,83 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.