Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/165172
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Вельченко, А. А. | - |
dc.contributor.author | Марончук, И. И. | - |
dc.contributor.author | Саникович, Д. Д. | - |
dc.contributor.author | Потапков, П. В. | - |
dc.date.accessioned | 2017-01-13T16:51:50Z | - |
dc.date.available | 2017-01-13T16:51:50Z | - |
dc.date.issued | 2016 | - |
dc.identifier.citation | Материалы и структуры современной электроники : сб. науч. тр. VII Междунар. науч. конф., посвящ. 50-летию каф. физики полупроводников и наноэлектроники, Минск, 12–13 окт. 2016 г. / редкол. : В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. — Минск : Изд. центр БГУ, 2016. — С. 222–225. | ru |
dc.identifier.isbn | 978-985-553-403-8 | - |
dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/165172 | - |
dc.description.abstract | Выявлены недостатки в оборудовании и технологических подходах проведения процессов выращивания наноструктур с квантовыми точками методом жидкофазной эпитаксии, используемых нами ранее. Проведено физико-математическое моделирование процессов выращивания наноструктур жидкофазной эпитаксией, используя SolidWorks, программу FlowSimulation, определившее наличие негативных факторов, влияющих на процессы. Проведена оптимизация математической модели и оборудования, его настройка. Выращены открытые квантовые точки Ge на Si подложке, исследованные атомно-силовой микроскопией. Установлено хорошее согласие расчетного и экспериментального распределения температур в процессе выращивания воспроизводимых структур. | ru |
dc.description.sponsorship | Белорусский республиканский фонд фундаментальных исследований. Работа выполнена при финансовой поддержке Минобрнауки РФ по базовой части государственного задания №2014/702. | ru |
dc.language.iso | ru | ru |
dc.publisher | Минск : Изд. центр БГУ | ru |
dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | ru |
dc.title | Усовершенствование процесса выращивания наноструктур жидкофазной эпитаксией | ru |
dc.type | conference paper | ru |
Располагается в коллекциях: | 2016. Материалы и структуры современной электроники |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
С.222-225_Вельченко.pdf | 445,06 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.