Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/165172
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorВельченко, А. А.-
dc.contributor.authorМарончук, И. И.-
dc.contributor.authorСаникович, Д. Д.-
dc.contributor.authorПотапков, П. В.-
dc.date.accessioned2017-01-13T16:51:50Z-
dc.date.available2017-01-13T16:51:50Z-
dc.date.issued2016-
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : сб. науч. тр. VII Междунар. науч. конф., посвящ. 50-летию каф. физики полупроводников и наноэлектроники, Минск, 12–13 окт. 2016 г. / редкол. : В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. — Минск : Изд. центр БГУ, 2016. — С. 222–225.ru
dc.identifier.isbn978-985-553-403-8-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/165172-
dc.description.abstractВыявлены недостатки в оборудовании и технологических подходах проведения процессов выращивания наноструктур с квантовыми точками методом жидкофазной эпитаксии, используемых нами ранее. Проведено физико-математическое моделирование процессов выращивания наноструктур жидкофазной эпитаксией, используя SolidWorks, программу FlowSimulation, определившее наличие негативных факторов, влияющих на процессы. Проведена оптимизация математической модели и оборудования, его настройка. Выращены открытые квантовые точки Ge на Si подложке, исследованные атомно-силовой микроскопией. Установлено хорошее согласие расчетного и экспериментального распределения температур в процессе выращивания воспроизводимых структур.ru
dc.description.sponsorshipБелорусский республиканский фонд фундаментальных исследований. Работа выполнена при финансовой поддержке Минобрнауки РФ по базовой части государственного задания №2014/702.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherМинск : Изд. центр БГУru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleУсовершенствование процесса выращивания наноструктур жидкофазной эпитаксиейru
dc.typeconference paperru
Располагается в коллекциях:2016. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
С.222-225_Вельченко.pdf445,06 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.