Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/163725
Заглавие документа: | Оптимизация процесса химико-механической полировки вольфрама для формирования межсоединений субмикронных ИМС |
Авторы: | Наливайко, О. Ю. Роговой, В. И. Турцевич, А. С. |
Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика ЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Химическая технология. Химическая промышленность |
Дата публикации: | 2016 |
Издатель: | Минск : Изд. центр БГУ |
Библиографическое описание источника: | Материалы и структуры современной электроники : сб. науч. тр. VII Междунар. науч. конф., посвящ. 50-летию каф. физики полупроводников и наноэлектроники, Минск, 12–13 окт. 2016 г. / редкол. : В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. — Минск : Изд. центр БГУ, 2016. — С. 95–98. |
URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/163725 |
ISBN: | 978-985-553-403-8 |
Финансовая поддержка: | Белорусский республиканский фонд фундаментальных исследований. |
Располагается в коллекциях: | 2016. Материалы и структуры современной электроники |
Полный текст документа:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
С.95-98_Наливайко.pdf | 421,71 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.