Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/163725
Title: Оптимизация процесса химико-механической полировки вольфрама для формирования межсоединений субмикронных ИМС
Authors: Наливайко, О. Ю.
Роговой, В. И.
Турцевич, А. С.
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
ЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Химическая технология. Химическая промышленность
Issue Date: 2016
Publisher: Минск : Изд. центр БГУ
Citation: Материалы и структуры современной электроники : сб. науч. тр. VII Междунар. науч. конф., посвящ. 50-летию каф. физики полупроводников и наноэлектроники, Минск, 12–13 окт. 2016 г. / редкол. : В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. — Минск : Изд. центр БГУ, 2016. — С. 95–98.
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/163725
ISBN: 978-985-553-403-8
Sponsorship: Белорусский республиканский фонд фундаментальных исследований.
Appears in Collections:2016. Материалы и структуры современной электроники

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
С.95-98_Наливайко.pdf421,71 kBAdobe PDFView/Open


PlumX

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.