Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н.

Даты публикации Авторы Заглавия Темы

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/111785

Полная запись метаданных

Поле DC	Значение	Язык
dc.contributor.author	Красицкая, Юлия Александровна	-
dc.date.accessioned	2015-03-24T14:25:19Z	-
dc.date.available	2015-03-24T14:25:19Z	-
dc.date.issued	2014	-
dc.identifier.uri	http://elib.bsu.by/handle/123456789/111785	-
dc.language.iso	ru	ru
dc.subject	ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика	ru
dc.title	Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н.	ru
dc.type	annotation	ru
Располагается в коллекциях:	Физика (производственная деятельность). 2014

Полный текст документа:

Файл	Описание	Размер	Формат
Реферат_Красицкая Ю.А..pdf		143,65 kB	Adobe PDF	Открыть

Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.