Logo BSU

Статистика

Всего просмотров

Просмотров
Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н. 298

Всего просмотров за месяц

июля 2025 августа 2025 сентября 2025 октября 2025 ноября 2025 декабря 2025 января 2026
Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н. 2 6 49 17 21 6 3

Загрузок файла

Просмотров
Реферат_Красицкая Ю.А..pdf 88

ТОП-просмотров по странам

Просмотров
Соединенные Штаты 123
Франция 32
Канада 26
Россия 20
Япония 18
Германия 12
Китай 10
Украина 10
Австрия 9
Беларусь 8

ТОП-просмотров по городам

Просмотров
Houston 54
Ottawa 25
Tokyo 18
Ashburn 13
Ann Arbor 9
Vienna 9
Munich 8
Buffalo 7
Caracas 4
Gomel 4