Logo BSU

Статистика

Всего просмотров

Просмотров
Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н. 317

Всего просмотров за месяц

сентября 2025 октября 2025 ноября 2025 декабря 2025 января 2026 февраля 2026 марта 2026
Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н. 49 17 21 6 15 7 0

Загрузок файла

Просмотров
Реферат_Красицкая Ю.А..pdf 91

ТОП-просмотров по странам

Просмотров
Соединенные Штаты 128
Канада 35
Франция 32
Россия 21
Япония 18
Германия 12
Китай 10
Украина 10
Австрия 9
Беларусь 8

ТОП-просмотров по городам

Просмотров
Houston 54
Ottawa 34
Tokyo 18
Ashburn 13
Ann Arbor 9
Vienna 9
Munich 8
Buffalo 7
Caracas 4
Gomel 4