Logo BSU

Статистика

Всего просмотров

Просмотров
Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н. 289

Всего просмотров за месяц

мая 2025 июня 2025 июля 2025 августа 2025 сентября 2025 октября 2025 ноября 2025
Исследование влияния технологических процессов изготовления интегральных микросхем на загрязнение кремниевых пластин примесями железа: реферат дипломной работы / Красицкая Юлия Александровна; БГУ, Физический факультет, Кафедра физики полупроводников и наноэлектроники; науч. рук. Петлицкий А.Н. 0 1 2 6 49 17 21

Загрузок файла

Просмотров
Реферат_Красицкая Ю.А..pdf 82

ТОП-просмотров по странам

Просмотров
Соединенные Штаты 122
Франция 32
Канада 24
Россия 19
Япония 16
Германия 12
Китай 10
Украина 10
Австрия 9
Беларусь 8

ТОП-просмотров по городам

Просмотров
Houston 54
Ottawa 23
Tokyo 16
Ashburn 13
Ann Arbor 9
Vienna 9
Munich 8
Buffalo 7
Gomel 4
Mountain View 4