Модификация приповерхностных слоев имплантированных монокристаллов кремния

Abstract

Исследовалось влияние радиационных дефектов, созданных имплантацией, на свойства приповерхностной (рабочей) области пластин монокристаллического кремния. Полированные пластины кремния марки КЭФ 4,5(100), КДБ 12(100) и КДБ 10(111) толщиной 460 ± 20 мкм имплантировались ионами B+ (Е= 500 кэВ) и Р+ (Е= 1000 кэВ) дозами от 5Е12 до 5Е14 см-2 при комнатной температуре на ускорителе ионов DTL. В процессе имплантации наблюдалось приповерхностное упрочнение монокристаллов: микротвердость снижалась при увеличении нагрузки и выходила на стационарное значение при Р свыше 100 г. Увеличение дозы имплантации в пределах до 5Е13 см-2 приводило к росту микротвердости приповерхностного слоя, т.е. к увеличению эффекта приповерхностного упрочнения.