Управляемое магнетронное осаждение пленок оксида индия олова ITO с оптимальными свойствами

Abstract

Основной задачей настоящей работы является определение оптимальных параметров осаждения, которые позволяют достичь высокой воспроизводимости химического состава пленок ITO, соответственно, их низкого удельного сопротивления и высокой степени прозрачности. Для осаждения пленок ITO использован планарный магнетрон постоянного тока. В работе использовалась мишень следующего состава: In 85 % Sn 15 %. Остаточное давление в разрядной камере распыления равнялось 1×10 3 Па. Показано, что оптическое управление расходом кислорода в процессах магнетронного распыления позволяет воспроизводимо получать пленки ITO в широком диапазоне их электрических и оптических характеристик. Проведенные исследования позволили выбрать оптимальные режимы формирования прозрачного электрода к приборным светоизлучающим структурам.