Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/90611
Title: Химическое и электрохимическое осаждение металлов
Authors: Свиридов, Вадим Васильевич
Keywords: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Химия
Issue Date: 1998
Publisher: БГУ
Citation: Химические проблемы создания новых материалов и технологий. сб. ст./под ред. В. В. Свиридова - Минск, 1998. - Вып.1.
Abstract: Подведены основные итоги исследований, выполняющихся на кафедре неорганической химии БГУ с конца шестидесятых годов и в НИИ ФХП с момента его организации, по проблеме химического осаждения металлов (ХОМ) из водных растворов, а также итоги исследований, выполняемых в этих коллективах в последние годы по проблеме электрохимического осаждения металлов. Рассмотрены принципы разработанных в БГУ несеребряных фотографических процессов получения изображений и фотоселективного осаждения металлов, основанных на использовании реакций ХОМ; закономерности фотохимических превращений в светочувствительных системах, используемых в фотослоях и в качестве светочувствительных активаторов осаждения металлов; свойства изучавшихся модельных фотослоев несеребряного проявления; изученные особенности механизма реакций ХОМ; установленные закономерности формирования нанодисперсных металлов — продуктов реакций ХОМ. Подведены итоги исследований, позволивших разработать принципы технологии получения методом ХОМ на диэлектрических и электропроводящих подложках тонких пленок меди, никеля, допированного бором, а также золота и некоторых сплавов. Рассмотрены результаты исследований особенностей электрохимического формирования тонких пленок ряда сплавов — Ni-W, Ni-Mo, Ni-Sn, Cu-Sn.
URI: http://elib.bsu.by/handle/123456789/90611
Appears in Collections:1998. Химические проблемы создания новых материалов и технологий.

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
tmp 0007.pdf2,2 MBAdobe PDFView/Open
Show full item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.