Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/215230
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorТолкачева, Е. А.
dc.contributor.authorМурин, Л. И.
dc.date.accessioned2019-02-21T13:28:18Z-
dc.date.available2019-02-21T13:28:18Z-
dc.date.issued2018
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 197-200.
dc.identifier.isbn978-985-566-671-5
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/215230-
dc.descriptionДефектно-примесная инженерия. Радиационные эффекты в полупроводниках
dc.description.abstractВ настоящей работе мы значительно увеличили концентрацию кислородных тримеров (O3i) в кремнии, сначала обогащая кристаллы Si комплексом вакансия-три атома кислорода (VO3), а затем облучая быстрыми электронами. Обнаружено, что в результате взаимодействия радиационно-индуцированных собственных междоузельных атомов кремния с VO3 происходит эффективная генерация комплексов, включающих три междоузельных атома кислорода. Полученные результаты дают возможность приписать кислородному тримеру три полосы локальных колебательных мод, расположенные при 537, 723 и 1020 см-1 , наряду с известной полосой у 1006 см-1 .
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleРадиационно-индуцированное формирование кислородных тримеров в кремнии: данные ИК-поглощения
dc.title.alternativeRadiation-induced generation of the oxygen trimer in silicon: infra-red absorption studies / E. A. Tolkacheva, L. I. Murin
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeIn the present work, we significantly increased the concentration of the O3i defect in silicon, first enriching with the vacancy-three oxygen atom complex (VO3), and then irradiating with fast electrons. It is found that an interaction of the radiation-induced Si self-interstitials with VO3 occurs, so resulting in the appearance of a complex incorporating three interstitial oxygen atoms. The results obtained give strong support for the assignment of three vibrational bands positioned at 537, 723 and 1020 cm-1 alongside with the band at 1006 cm-1 as arising from the oxygen trimer.
Располагается в коллекциях:2018. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
197-200.pdf380,73 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.