Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/210818
Заглавие документа: Использование TiN в качестве барьерного слоя в системе металлизации Ti/TiN/Au при формировании низкоомных контактов к алмазу
Авторы: Соловьев, Валерий Сергеевич
Гусаков, Григорий Анатольевич
Крекотень, Олег Владимирович
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2003
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Вестник Белорусского государственного университета. Сер. 1, Физика. Математика. Информатика. – 2003. - № 1. – С. 42-45.
Аннотация: The composition of titanium and titanium nitride films deposited on the synthetic diamond using the method magnetron sputtering has been studied. It is shown that annealing at high temperature (700-800 °C) leads to the formation of a titanium carbide layer at the diamond/Ti interface. Nitrogen does not diffuse into carbide layer and adjacent region of diamond. Titanium nitride layer also is a good diffusion barrier for titanium and gold deposited on the nitride surface.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/210818
ISSN: 0321-0367
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2003, №1 (январь)

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
42-45.pdf2,57 MBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.