Оптические и электрофизические свойства тонких пленок ZnO с легирующими добавками ErF3

Abstract

Проведены исследования тонких пленок, осажденных в вакууме на кремниевую подложку при многоимпульсном высокочастотном (f ∼ 20−30 кГц) лазерном воздействии на керамику из оксида цинка, легированную фторидом эрбия. Изучена морфология полученных пленок с помощью атомно-силовой микроскопии, выявлены особенности спектров пропускания и комбинационного рассеяния, представлены результаты исследования их электрофизических характеристик = Thin films deposited on silicon substrate in vacuum by high-frequency (f ∼ 20−30 kHz) multipulse laser action on zinc oxide doped with erbium fluoride ceramics are investigated. The morphology of obtained films is studied using atomic force microscopy, the features of its transmission and Raman scattering spectra are revealed, the results of their electrophysical characteristics are presented