Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/109175
Title: | Разработка физико-технических основ формирования наноструктурированного оксида алюминия оптоэлектронного назначения методом магнетронного осаждения : отчет о научно-исследовательской работе (заключительный) / научный руководитель О. Р. Людчик |
Authors: | Людчик, О. Р. Михей, В. Н. Бурмаков, А. П. Зайков, В. А. Вишневская, Е. В. Солодухо, Д. А. |
Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
Issue Date: | 2014 |
Publisher: | Минск : БГУ |
Abstract: | Объектом исследования являются комбинированная плазма, образованная реактивным магнетронным распылением и частотно-импульсным лазерным воздействием на материалы в условиях вакуума. Цель работы – исследование параметров комбинированной плазмы, образованной реактивным магнетронным распылением и частотно-импульсным лазерным воздействием на алюминиевую мишень в вакуумных условиях, и разработка физических основ формирования пленок оксида алюминия с использованием плазмы магнетронного разряда. Основными методами исследований являются: эмиссионная оптическая спектроскопия, электрофизические и оптические методы измерения параметров магнетронного разряда, лазерной плазмы и пленок .оксида алюминия В процессе работы использовались вакуумно-плазменные технологические установки магнетронного распыления УВН и ИНВАК с магнетронными распылителями, частотный двухимпульсный лазер LS-2134D, лазер LS-2137, спектральный вычислительный комплекс КСВУ-23, спектрометр S100, осциллограф цифровой В-483, спектральная аппаратура. В результате проведенной работы создана экспериментальная установка для формирования и исследования комбинированного плазменного потока, образованного магнетронным распылением и частотно-импульсным лазерным воздействием на материалы в газах низкого давления. Изучено влияние параметров лазерного излучения на эмиссионно-оптические характеристики лазерной и комбинированной плазмы. Установлено, что генерация импульсной лазерной плазмы приводит к образованию шунтирующего дугового разряда, который оказывает существенное влияние на характеристики магнетронного разряда и комбинированного плазменного потока, а также позволяет проводить процесс комбинированного осаждения пленок при давлениях в вакуумной камере, когда самостоятельное горение магнетронного разряда не реализуется. Разработаны алгоритмы оптического контроля и управления процессом реактивного и совместного магнетронно-лазерного осаждения пленок оксида алюминия. Результаты работы могут быть использованы для отработки технологий формирования наноразмерных пленочных покрытий различного назначения. |
URI: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/109175 |
Registration number: | № гос. регистрации 20115011 |
Appears in Collections: | Отчеты 2014 |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
отчет Людчик 20115011.doc | 1,61 MB | Microsoft Word | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.