Спектрофотометриический контроль параметров пленок борофосфоросиликатного стекла

Abstract

The possibility to realize the spectrometric control over the basic parameters (thickness, uniformity, impurity refraction and concentration) of the silicon oxide films doped by phosphorous and boron is studied. Owing to the use of the specially developed highspeed computerized spectrophotometric system on the basis of the domestic S100 spectrometer, the film parameters may be controlled not only after but also in the process of its formation. It is determined that in the visible wavelength range a refractive index of the films is considerably dependent on the concentration of phosphorous, being insensitive to changes in the boron concentration. = Изучена возможность реализации спектрофотометрического контроля основных параметров пленок (толщины, равномерности, показателя преломления и концентрации примеси) окисла кремния, легированных фосфором и бором. Применение созданной быстродействующей компьютеризированной спектрофотометрической системы на базе отечественного спектрометра S100 может обеспечить контроль параметров пленки не только после, но и в ходе ее формирования. Определено, что в видимом диапазоне длин волн показатель преломления пленок существенно зависит от концентрации примеси фосфора и не чувствителен к изменению концентрации примеси бора.