Электрохимическое осаждение пленок никель-бор в присутствии амин-боранов и бороводородов

Abstract

The effect of nature and concentration of various boron-containing compounds (dimethylamine borane, trimethylamine borane, morpholine borane, sodium decahydroklovodecaborate), chemical and phase composition, structure and morphology of electrodeposited nickel-boron films was studied. = Природа и концентрация борсодержащего соединения существенно влияют на химический и фазовый составы пленок, их структуру и морфологию. При наличии производных амин-боранов в электролите никелирования возможно получение только поликристаллических пленок, тогда как при наличии высшего бороводорода – как поликристаллических, так и аморфных пленок. Показано, что в присутствии высшего бороводорода наряду с электрохимическим процессом параллельно протекает процесс химического осаждения сплава никель-бор на каталитической поверхности.