Анализ локальных областей вблизи интерфейсов в наноструктурных многокoмпонентных СATHODIC – ARC – VAPOR – DEPOSITION (CAVD) покрытиях (Ti-Zr-Hf-V-Nb)N

Abstract

C помощью нескольких взаимодополняющих методов элементно-структурного анализа: медленного пучка позитро- нов (SPB), микропучка протонов (-PIXE), микро – и нано пучка электронов (EDS и SEM-анализа), метода фазово- структурного анализа XRD, включая методику "a - sin2" – измерения напряженно-деформированного состояния (рент- геновская тензометрия), были исследованы многокомпонентные наноструктурные покрытия из (Ti-Zr-Hf-V-Nb)N, полу- ченные с помощью Сathodic – Arc – Vapor – Deposition method-метода. В этих покрытиях до и после отжига при Тотж= 600ºС (время отжига τ= 30 мин) были изучены: элементный состав, микроструктура, остаточные напряжения в нанозер- нах, профили распределения дефектов и атомов по глубине и на поверхности покрытия в 3D представлении, а также исследован фазовый состав, напряженно-деформированное состояние, текстура покрытий. Установлено, что путем создания высокогоупругого напряженно-деформированного состояния сжатия в покрытии можно в значительной степени повысить устойчивость его к окислению при высокотемпературном отжиге. При иссле- довании покрытий было обнаружено перераспределение элементов и дефектов, их выстраивание (сегрегация) за счет термостимулированной диффузии и окончания процесса спиноидальной сегрегации вблизи границ раздела интерфей- сов, вокруг зерен и субзерен, без значительного изменения среднего размера нанозерен.