Микроструктура и нанотвёрдость медно-углеродных покрытий, сформированных методом плазмо- усиленного химического вакуумного осаждения

Abstract

Исследована взаимосвязь микроструктуры и нанотвёрдости аморфных медно-углеродных водородсодержащих (Cu/a-C:H) композитов, сформированных методом плазмо-усиленного химического вакуумного осаждения (PECVD) в смеси реактивных газов Ar-CH4, Ar-C2H2. В ходе проведения исследований выявлено, что в случае C2H2 газа нанотвёрдость увеличивается практически в 2 раза. Возможно, это происходит ввиду большего содержания молекул углерода в случае C2H2 газа и более быстрого подавления роста медных кристаллитов в аморфной углеродной матрице. Поэтому за счёт мелкодисперсного упрочнения происходит резкое увеличение нанотвёрдости от 2,5 до 5,0 ГПа.