Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/340497| Title: | Формирование покрытий оксида циркония с пучково-плазменной обработкой |
| Other Titles: | Formation of Zirconium Oxide Coatings with Beam-Plasma Treatment / Nazarov A.M., Kamardin A.I., Kurbanbaev Sh.Z. |
| Authors: | Назаров, А. М. Камардин, А. И. Курбанбаев, Ш. З. |
| Keywords: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Issue Date: | 2025 |
| Publisher: | Минск : БГУ |
| Citation: | Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 16-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 22-25 сент. 2025 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2025. – С. 496-499. |
| Abstract: | Были проведены исследования режимов формирования, морфологии и физико-химических свойств наноразмерных покрытий ZrO2 на Si, полученных методом магнетронного распыления сплава циркония. Покрытия диоксида циркония на кремниевых пластинах исследовались методами сканирующей электронной микроскопии, рамановской микроскопии и энергодисперсионного рентгеновского микроанализа. Исследования показали, что толщина формируемых покрытий ZrO2 пропорциональна времени их осаждения при прочих равных условиях (ток разряда, давление газов, расстояние). Скорость осаждения покрытий достигает 1.0 нм/с, что в несколько раз меньше скорости осаждения циркония. Снижение концентрации кислорода приводит к осаждению металлического слоя, а рост давления кислорода резко снижает скорость осаждения, вплоть до нулевых значений. Исследованы химическая стойкость покрытий ZrO2 в растворе плавиковой кислоты и напряжения пробоя между зондом на поверхности оксида и кремниевой подложкой с металлическим покрытием на тыльной стороне. Исследования показали возможность реактивного магнетронного нанесения покрытий ZrO2 со скоростью осаждения до 1 нм/с при оптимальном составе смеси Ar-O2. Покрытия ZrO2 толщиной до 500 нм отличаются высокой химической стойкостью. Напряжение пробоя покрытия достигает 190 В и более |
| Abstract (in another language): | The modes of formation, morphology and physicochemical properties of nanosized ZrO2 coatings on Si obtained by magnetron sputtering of zirconium alloy were studied. Zirconium dioxide coatings on silicon wafers were studied by scanning electron microscopy, Raman microscopy and energy-dispersive X-ray microanalysis. Studies have shown that the thickness of the formed ZrO2 coatings is proportional to the time of their deposition, all other conditions being equal (discharge current, gas pressure, distances). The coating deposition rate reaches 1.0 nm/s, which is several times lower than the deposition rate of zirconium. A decrease in oxygen concentration leads to deposition of a metal layer, and an increase in oxygen pressure sharply reduces the deposition rate, down to zero values. The chemical resistance of ZrO2 coatings in a hydrofluoric acid solution and the breakdown voltage between a probe on the oxide surface and a silicon substrate with a metal coating on the back side were investigated. The studies have shown the possibility of reactive magnetron deposition of ZrO2 coatings with a deposition rate of up to 1 nm/s with an optimal composition of the Ar-O2 mixture. ZrO2 coatings up to 500 nm thick are characterized by high chemical resistance. The breakdown voltage of the coating reaches 190 V and more |
| Description: | Секция 5. Методы, оборудование, плазменные и радиационные технологии = Section 5. Methods, Equipment, Plasma and Radiation Technologies |
| URI: | https://elib.bsu.by/handle/123456789/340497 |
| ISSN: | 2663-9939 (print) 2706-9060 (online) |
| Licence: | info:eu-repo/semantics/openAccess |
| Appears in Collections: | 2025. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| 496-499.pdf | 124,3 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.