Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/340496Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Могильный, В. В. | - |
| dc.contributor.author | Калесный, Н. И. | - |
| dc.contributor.author | Стасевич, Д. Е. | - |
| dc.date.accessioned | 2026-01-22T14:39:50Z | - |
| dc.date.available | 2026-01-22T14:39:50Z | - |
| dc.date.issued | 2025 | - |
| dc.identifier.citation | Взаимодействие излучений с твердым телом : материалы 16-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 22-25 сент. 2025 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2025. – С. 492-495. | - |
| dc.identifier.issn | 2663-9939 (print) | - |
| dc.identifier.issn | 2706-9060 (online) | - |
| dc.identifier.uri | https://elib.bsu.by/handle/123456789/340496 | - |
| dc.description | Секция 5. Методы, оборудование, плазменные и радиационные технологии = Section 5. Methods, Equipment, Plasma and Radiation Technologies | - |
| dc.description.abstract | Предложен метод формирования рельефов поверхности полимерных слоев на основе фотоиндуцированной деформации сополимеров с боковыми группами бензальдегидной, антраценовой и халконовой структуры в условиях обратимой пластификации. В диапазоне толщин полимерных слоев 0.5-1.6 мкм высота периодического деформационного фоторельефа достигает 25% толщины слоя, разрешающая способность ~ 1000 - 2000 мм-1. Термоустойчивость фоторельефов повышается при их фотосшивании, что расширяет возможности применения технологий обработки при повышенных температурах и увеличивает лучевую прочность структур | - |
| dc.language.iso | ru | - |
| dc.publisher | Минск : БГУ | - |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | - |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | - |
| dc.title | Поверхностные деформационные фоторельефы на основе фотоструктурных превращений сополимеров | - |
| dc.title.alternative | Surface Deformation Photoreliefs Based on Photostructural Transformations of Copolymers / Mahilny U.V., Kalesnyi N.I., Stasevich D.E. | - |
| dc.type | conference paper | - |
| dc.description.alternative | A method for forming surface reliefs of polymer layers based on photoinduced deformation of copolymers with side groups of benzaldehyde, anthracene and chalcone structure under conditions of reversible plasticization is proposed. In the range of polymer layer thicknesses of 0.5-1.6 μm, the height of the periodic deformation photorelief reaches 25% of the layer thickness, the resolution is ~ 1000 - 2000 mm-1. The thermal stability of photoreliefs increases with their photocrosslinking, which expands the possibilities of using processing technologies at elevated temperatures and increases the radiation strength of structures | - |
| Располагается в коллекциях: | 2025. Взаимодействие излучений с твердым телом | |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 492-495.pdf | 128,28 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.