Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/337713
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorЮвченко, В. Н.
dc.contributor.authorМискевич, С. А.
dc.contributor.authorКомаров, Ф. Ф.
dc.date.accessioned2025-11-26T12:42:57Z-
dc.date.available2025-11-26T12:42:57Z-
dc.date.issued2025
dc.identifier.citationКвантовая электроника : материалы XV Междунар. науч.-техн. конф., Минск, 18–20 нояб. 2025 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: А. А. Афоненко (гл. ред.), М. М. Кугейко, А. В. Баркова. – Минск : БГУ, 2025. – С. 278-282.
dc.identifier.isbn978-985-881-861-6
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/337713-
dc.description.abstractПредложена модель одиночного сбоя в 6-транзисторной ячейке памяти SRAM при попадании в ее элемент высокоэнергетического иона. Рассчитана величина критического заряда, необходимого для наступления сбоя, и время наступления сбоя после пролета иона для ячеек, состоящих из 14 нм FinFET транзисторов и классических 350 нм МОП-транзисторов. Проанализирована вероятность наступления сбоя при попадании ионов различных масс и энергий в стоковую область p-МОП транзистора
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.subjectЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехника
dc.titleМоделирование одиночного сбоя в 6-транзисторной SRAM-ячейке при высокоэнергетическом ионном облучении
dc.title.alternativeSingle-event upset simulation for 6-transistor SRAM cell irradiated with high energy ions / V. N. Yuvchenko, S. A. Miskiewicz, F. F. Komarov
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeA single-event upset (SEU) model is proposed for a 6-transistor SRAM memory cell impacted by a high-energy ion. The critical charge required for the upset to occur and upset time after the ion's passage are calculated for the cells consisting of 14 nm FinFET transistors and planar 350 nm MOSFETs. The probability of SEU occurring when ions of various masses and energies hit the drain region of a p-MOS transistor is analyzed
Располагается в коллекциях:2025. Квантовая электроника

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
278-282.pdf1,7 MBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.