Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/337695
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorМельниченко, И. А.
dc.contributor.authorШугабаев, Т. М.
dc.contributor.authorФоминых, Н. А.
dc.contributor.authorМахов, И. С.
dc.contributor.authorМоисеев, Э. И.
dc.contributor.authorГридчин, В. О.
dc.contributor.authorЖуков, А. Е.
dc.contributor.authorКрыжановская, Н. В.
dc.contributor.authorЛуценко, Е. В.
dc.date.accessioned2025-11-26T12:42:53Z-
dc.date.available2025-11-26T12:42:53Z-
dc.date.issued2025
dc.identifier.citationКвантовая электроника : материалы XV Междунар. науч.-техн. конф., Минск, 18–20 нояб. 2025 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: А. А. Афоненко (гл. ред.), М. М. Кугейко, А. В. Баркова. – Минск : БГУ, 2025. – С. 221-225.
dc.identifier.isbn978-985-881-861-6
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/337695-
dc.description.abstractВ работе исследовано влияние пассивации поверхности слоем SiO2, нанесённым методом золь-гель синтеза, на оптические характеристики GaAs мезаструктур с InGaAs/GaAs квантовыми ямами и микролазеров с активной областью из InGaAsN/GaAs квантовых ям. Показано значительное увеличение интенсивности фотолюминесценции мезаструктур, а так же снижение пороговой мощности возникновения лазерной генерации при оптической накачке, а также уменьшение пороговой плотности тока для микролазеров с электрической инжекцией после пассивации. Полученные результаты подтверждают эффективность метода золь-гель пассивации для улучшения характеристик полупроводниковых излучающих структур
dc.description.sponsorshipРабота выполнена в ходе проведения исследования в рамках проекта «Международное академическое сотрудничество» НИУ ВШЭ. Оптические измерения проводились на уникальной научной установке «Комплексный оптоэлектронный стенд» НИУ ВШЭ- Санкт-Петербург.
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.subjectЭБ БГУ::ТЕХНИЧЕСКИЕ И ПРИКЛАДНЫЕ НАУКИ. ОТРАСЛИ ЭКОНОМИКИ::Электроника. Радиотехника
dc.titleВлияние золь-гель пассивации SiO2 на оптические характеристики InGaAsN/GaAs микролазеров
dc.title.alternativeEffect of sol-gel passivation of SiO2 on the optical characteristics of InGaAsN/GaAs microlasers / I. A. Melnichenko, T. M. Shugabaev, N. A. Fominykh, I. S. Makhov, E. I. Moiseev, V. O. Gridchin, A. E. Zhukov, N. V. Kryzhanovskaya, E. V. Lutsenko
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeThe study investigates the effect of surface passivation with a SiO2 layer applied by sol-gel synthesis on the optical characteristics of GaAs mesostructures with InGaAs/GaAs quantum wells and microlasers with an active region made of InGaAsN/GaAs quantum wells. A significant increase in the photoluminescence intensity of mesostructures is shown, as well as a decrease in the threshold power for laser generation during optical pumping, and a decrease in the threshold current density for electrically injected microlasers after passivation. The results confirm the effectiveness of the sol-gel passivation method for improving the characteristics of semiconductor emitting structures
Располагается в коллекциях:2025. Квантовая электроника

Полный текст документа:
Файл РазмерФормат 
221-225.pdf1,67 MBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.