Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/306016Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Sviridova, T. V. | - |
| dc.contributor.author | Logvinovich, A. S. | - |
| dc.contributor.author | Odzaev, V. B. | - |
| dc.contributor.author | Sviridov, D. V. | - |
| dc.date.accessioned | 2023-12-11T10:45:25Z | - |
| dc.date.available | 2023-12-11T10:45:25Z | - |
| dc.date.issued | 2023 | - |
| dc.identifier.citation | Журнал Белорусского государственного университета. Химия = Journal of the Belarusian State University. Chemistry. – 2023. – № 2. – С. 29-34 | ru |
| dc.identifier.issn | 2520-257X | - |
| dc.identifier.uri | https://elib.bsu.by/handle/123456789/306016 | - |
| dc.description.abstract | Investigation of the mechanism of UV-induced polycondensation in the oxoacid-derived mixed oxide V2O5 : MoO3 (molar ratio of oxides was 3 : 2) films employing fractal analysis of AFM images has evidenced that solid-state polymerisation process via 3D-mechanism resulting in the increased roughness of the microrelief of the film accompanied, however, with decrease of the fractal dimension. The polycondensation is accompanied with ordering yielding nuclei agglomerates built of nanometer-sized faceted pseudocrystals which become visible after development in the acid solution. These alignment effects, that result in the recovery of the photoresist film microrelief and the increase of the fractal dimension to the initial value ensures the dimension stability and sharp edges in the case of patterns generated with MoO3 : V2O5 photoresist films. | ru |
| dc.description.sponsorship | The research was supported by the Ministry of Education of the Republic of Belarus within the state programme of scientific research «Photonics and electronics for innovation» (assignment 3.11.4 «Development of physical and technological methods for targeted modification and control of masking layers based on inorganic polymers to create new radiation resistant photoresists», state registration No. 20212675). = Работа выполнена при финансовой поддержке Министерства образования Республики Беларусь в рамках государственной программы научных исследований «Фотоника и электроника для инноваций» (задание 3.11.4 «Разработка физико-технологических методов целенаправленной модификации и контроля маскирующих слоев на основе неорганических полимеров для создания новых радиационно стойких фоторезистов», № гос. регистрации 20212675). | ru |
| dc.language.iso | en | ru |
| dc.publisher | Минск : БГУ | ru |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | ru |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Химия | ru |
| dc.title | Photoinduced polycondensation processes in molybdenum and vanadium mixed oxide thin films: towards novel photolithographic material | ru |
| dc.title.alternative | Фотоиндуцированные поликонденсационные процессы в тонких пленках смешанного оксида молибдена и ванадия: перспективы создания новых фотолитографических материалов / Т. В. Свиридова, А. С. Логвинович, В. Б. Оджаев, Д. В. Свиридов | ru |
| dc.type | article | ru |
| dc.rights.license | CC BY 4.0 | ru |
| dc.description.alternative | На основе использования фрактального анализа атомно-силовых изображений исследован механизм УФ-стимулированной поликонденсации в пленках V2O5 : MoO3 (мольное соотношение оксидов 3 : 2), полученных из соответствующих оксокислот. Установлено, что твердофазная полимеризация смешанно-оксидных олигомеров протекает по 3D-механизму, результатом действия которого является увеличение среднего арифметического отклонения профиля поверхности оксидного слоя при одновременном уменьшении фрактальной размерности. Показано, что поликонденсация сопровождается эффектами упорядочения, приводящими к образованию агломератов зерен в виде псевдокристаллитов нанометрового размера, которые можно наблюдать на атомно-силовых изображениях после проявления в растворе кислоты. Такое упорядочение является одним из факторов, обеспечивающих размерную стабильность фотолитографических рисунков, генерированных при помощи пленок MoO3 : V2O5, и сохранение у них ровного края. | ru |
| Располагается в коллекциях: | 2023, №2 | |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.