Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/305477Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Гончаров, В. К. | |
| dc.contributor.author | Пузырев, М. В. | |
| dc.date.accessioned | 2023-12-01T07:25:42Z | - |
| dc.date.available | 2023-12-01T07:25:42Z | - |
| dc.date.issued | 2023 | |
| dc.identifier.citation | Квантовая электроника : материалы XIV Междунар. науч.-техн. конф., Минск, 21-23 нояб. 2023 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: М. М. Кугейко (гл. ред.), А. А. Афоненко, А. В. Баркова. – Минск : БГУ, 2023. – С. 403-407. | |
| dc.identifier.isbn | 978-985-881-530-1 | |
| dc.identifier.uri | https://elib.bsu.by/handle/123456789/305477 | - |
| dc.description.abstract | Эксперименты показали, что происходит искажение временной формы импульса ионного тока при малых (вплоть до ноля) ускоряющих потенциалах электрического поля в промежутке сетка-подложка в лазерно-плазменном источнике для нанесения нанопокрытий. Найден механизм искажения временной формы импульса ионного тока и предложен способ его устранения. КПД процесса нанесения нанопленок повышается при устранении искажения формы первоначального импульса ионного тока. Это позволяет с помощью лазерно-плазменного источника ионов получать на поверхности подложки тонкие равномерные нанопленки | |
| dc.language.iso | ru | |
| dc.publisher | Минск : БГУ | |
| dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | |
| dc.title | Оптимизация режима ионного потока на подложку при малых ускоряющих потенциалах в лазерно-плазменном источнике для формирования наноструктур | |
| dc.title.alternative | Optimization of the regime of a ion flow to the substrate at low accelerating potentials in a laser-plasma source for the formation of nanostructures / V. K. Goncharov, M. V. Puzyrev | |
| dc.type | conference paper | |
| dc.description.alternative | Experiments have shown that the time shape of the ion current pulse is distorted at low (up to zero) accelerating potentials of the electric field in the grid-substrate interval in the laser-plasma source for depositing nanocoatings. The mechanism of distortion of the time shape of the ion current pulse is found and a method for its elimination is proposed. The efficiency of the nanofilms deposition process increases when the distortion of the shape of the initial ion current pulse is eliminated. This makes it possible to obtain thin uniform nanofilms on the substrate surface using a laser-plasma ion source | |
| Располагается в коллекциях: | 2023. Квантовая электроника | |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 403-407.pdf | 1,69 MB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.