Характер движения плазмы за светодетонационным комплексом при лазерной обработке металлического образца, находящегося во внешнем электрическом поле

Abstract

На основании анализа временного изменения вида интерферограмм, рассчитаны зависимости скорости перемещения фронта плазменного факела от времени при различном направлении вектора напряженности внешнего электрического поля. Интерферограммы также показывают, что электрический пробой, происходящий при достижении плазменного облака электрода второго электрода, приводит к взрывному росту плотности электронов в плазменном образовании. В отверстии второго электрода образуется плазменный сгусток, в пределах которого плотность электронов превышает 10 20 cm-3, что означает полную ионизацию продуктов эрозии в плазменном образовании. Это приводит к эффективному поглощению лазерного излучения плазменным факелом и, как следствие, к экранировке мишени от воздействующего излучения