Режимы нанесения алюминиевых наноструктур с помощью лазерно-плазменного источника

Abstract

Для плавной регулировки энергии наносимых на подложку ионов между лазерной мишенью и подложкой располагается сетка, на которую по отношению к лазерной мишени подается отрицательный потенциал. В результате после сетки формируется поток частиц, состоящий преимущественно из ионов энергией которых можно надежно и плавно управлять в большом динамическом диапазоне, подавая на сетку по отношению к подложке положительный потенциал. Показано, что физические процессы, происходящие в промежутке сетка-подложка при заземленной сетке не влияют на физические процессы в промежутке мишень-сетка. Найдены условия, когда лазерно-плазменный источник для нанесения нанопокрытий с использованием ионных потоков позволяет производить травление поверхности подложки за счет вторичной эмиссии, создавать за счет имплантации псевдодиффузный слой материала лазерной мишени в приповерхностном слое материала подложки и наносить материал лазерной мишени на поверхность подложки. Все это можно производить не разгерметизируя вакуумную камеру, что позволит получать высокоадгезионные нанопокрытия в стерильных условиях