Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/292835
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorЖданович, Д. Н.
dc.contributor.authorЖданович, Н. Е.
dc.contributor.authorЛастовский, С. Б.
dc.contributor.authorМаркевич, В. П.
dc.contributor.authorМедведева, И. Ф.
dc.contributor.authorОгородников, Д. А.
dc.contributor.authorФадеева, Е. А.
dc.date.accessioned2023-01-26T10:06:59Z-
dc.date.available2023-01-26T10:06:59Z-
dc.date.issued2022
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы X Междунар. науч. конф., Минск, 12–14 окт. 2022 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2022. – С. 254-259.
dc.identifier.isbn978-985-881-440-3
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/292835-
dc.descriptionДефектно-примесная инженерия. Радиационные эффекты в полупроводниках
dc.description.abstractПоказано, что при облучении альфа частицами обратно-смещенных диодных структур на основе кристаллов р-SiGe скорость удаления основных носителей заряда значительно снижена в области пространственного заряда (ОПЗ) диодов по сравнению с квазинейтральной областью. Наблюдаемый эффект связан с инжекционно-ускоренной миграцией собственных межузельных атомов кремния и их взаимодействием с другими дефектами решетки в ОПЗ диодов во время облучения
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleВлияние электрического поля на образование радиационно-индуцированных центров в кремний-германиевых сплавах p-типа при облучении альфа-частицами
dc.title.alternativeEffect of electric field on formation of radiation-induced defects in p-type silicon-germanium alloys upon irradiation with alfa particles / D. N. Jdanovich, N. E. Jdanovich, S. B. Lastovskii, V.P. Markevich, I. F. Medvedeva, D. А. Aharodnikau, A. A. Fadzeyeva
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeIt is found that the removal rate of majority charge carriers is significantly reduced in depleted regions of reverse-biased SiGe-based n + –p-diodes compared to that in the neutral regions upon irradiation with alfa particles. The observed effect is related to injection-enhanced mobility of Si self-interstitial atoms and their interactions with other lattice defects in the depleted regions of the diodes during irradiation
Располагается в коллекциях:2022. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
254-259.pdf1,03 MBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.