Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/292799
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorИсмайлов, Б. К.
dc.contributor.authorОджаев, В. Б.
dc.contributor.authorЗикриллаев, Н. Ф.
dc.contributor.authorИсмаилов, К. А.
dc.contributor.authorКенжаев, З. Т.
dc.contributor.authorМавлонов, Г. Х.
dc.date.accessioned2023-01-26T10:06:52Z-
dc.date.available2023-01-26T10:06:52Z-
dc.date.issued2022
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы X Междунар. науч. конф., Минск, 12–14 окт. 2022 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2022. – С. 94-97.
dc.identifier.isbn978-985-881-440-3
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/292799-
dc.descriptionСвойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе
dc.description.abstractПоказано, что при наличии электронейтральных атомов никеля можно практически полностью подавлять генерацию термодоноров, которые появляются в диапазоне температур T = 450–200 °С. Экспериментально было показано, что дополнительное легированием кремния никелем при T = 1100–1200 °С, позволяет обеспечить достаточно высокую термостабильность его электрических параметров в широком диапазоне температур
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleВлияние электронейтральных атомов никеля на рекомбинационные параметры кремния
dc.title.alternativeEffect of electroneutral nickel atoms on the recombination parameters of silicon / B. K. Ismaylov, V. B. Odzhaev, N. F. Zikrillaev, K. A. Ismailov, Z. T. Kenzhaev, G. Kh. Mavlonov
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeIt is shown that in the presence of electrically neutral nickel atoms, it is possible to almost completely suppress the generation of thermal donors, which appears in the temperature range T = 450–1200 °С. It has been experimentally shown that with additional alloying of silicon with nickel at T = 1100–1200 °С, it makes it possible to provide a sufficiently high thermal stability of its electrical parameters in a wide temperature range
Располагается в коллекциях:2022. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
94-97.pdf466,03 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.