Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/290991
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorCherenda, N. N.-
dc.contributor.authorBibik, N. V.-
dc.contributor.authorAstashynski, V. M.-
dc.contributor.authorKuzmitski, A. M.-
dc.date.accessioned2022-12-19T12:05:48Z-
dc.date.available2022-12-19T12:05:48Z-
dc.date.issued2022-
dc.identifier.citationHigh Temperature Material Processes – 2022. – V.26, № 2 – P.91–100.ru
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/290991-
dc.description.abstractPhase composition, microstructure, and microhardness of the hypereutectic Al-Si alloy (22.3 wt.% of Si) surface layer alloyed with Nb atoms under compression plasma flows treatment (energy absorbed by the surface layer 25–35 J/cm2 per pulse) were investigated. X-ray diffraction analysis and scanning electron microscopy were used for surface layer characterization. The findings showed that plasma impact on the Nb/Al-Si system led to an alloyed layer formation in Al-Si with the thickness of 10–45 μm that was dependent on the treatment regimes. Alloyed layer contained (Al,Si)3Nb intermetallic compound. Alloying of Al-Si with niobium atoms led to its hardening. Annealing of alloyed samples at 170°C in air also resulted in microhardness growth.ru
dc.language.isoenru
dc.publisherBegell House, Inc.ru
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleModification of hypereutectic Al-Si alloy surface layer structure by Nb alloying under high temperature plasma impactru
dc.typearticleru
dc.rights.licenseCC BY 4.0ru
dc.identifier.DOI10.1615/HighTempMatProc.2022043681-
Располагается в коллекциях:Кафедра физики твердого тела и нанотехнологий (статьи)

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
manuscript2 - копия.pdf479,55 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.