Исследование вида и параметров фазового оптического отклика полимерных композиций, содержащих фенантренхинон в качестве фоточувствительного компонента, разработка способов записи голографических решеток лазерным излучением в спектральном диапазоне 400-535 нм : отчет о научно-исследовательской работе (заключительный) / БГУ ; научный руководитель В. В. Могильный

Abstract

Объектами исследования являются полимерные композиции, содержащие в качестве фоточувствительного компонента фенантренхинон. Цель работы – исследование фазового оптического отклика различных полимерных композиций, содержащих в качестве фоточувствительного компонента фенантренхинон, и разработка способа записи рельефных голографических решеток в тонких полимерных слоях лазерным излучением с длиной волны 400 – 535 нм. В результате экспериментальные исследования показали, что фенантренхинон в качестве фоточувствительного компонента голографических материалов на основе выбранных полимерных матриц позволяет осуществлять как объемную фазовую запись, так и запись поверхностных фоторельефов. Последние формируются на поверхности тонких слоев композиций, основой которых служат полимеры с боковыми антраценовыми группами, при обратимой пластификации после экспонирования. Получены экспериментальные данные о фотоокислении антраценовых групп полимерной основы, сенсибилизированном фенантренхиноном. На их основе проведены записи рельефных голограмм лазерным излучение с длиной волны 0,408 и 0,532 мкм, определены оптимальные условия проявления фоторельефов при обратимой пластификации, показано, что дифракционная эффективность может достигать 15-20 %, а граница разрешающей способности композиции лежит ниже периодов 0,9 мкм.