МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ МАГНЕТРОННОГО НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОЧНЫХ ПОКРЫТИЙ НА СТАЦИОНАРНЫЕ И ПЕРЕМЕЩАЕМЫЕ ПОДЛОЖКИ

Abstract

В статье представлена методика расчета профиля толщины тонкопленочных слоев при магнетронном их нанесе- нии для случаев стационарного расположения подложки над мишенью или линейного перемещения подложки (нанесе- ние покрытий на рулонные полимерные материалы). Разработанная 3D-модель основана на математическом описании интегрированного распыленного потока с каждой точки зоны распыления и позволяет рассчитывать скорость нанесения слоев в любой точке подложки для магнетронных распылительных систем (МРС) с осесимметричной или протяженной зоной распыления, профиль распределения толщины тонкопленочного покрытия и оптимизировать распылительную систему. Для верификации предложенной модели проведены экспериментальные исследования по нанесению тонкоп- леночных слоев методом магнетронного распыления мишени из стали 12Х18Н10Т на полиэтилентерефталатную плен- ку шириной 0.5 м при линейном перемещении пленки. Анализ результатов исследования показывают, что погрешность моделирования не превышает 5.0 %.