Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/271122
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorПетрикова, Е. А.
dc.contributor.authorИванов, Ю. Ф.
dc.contributor.authorТересов, А. Д.
dc.contributor.authorШиманский, В. И.
dc.date.accessioned2021-10-28T08:19:02Z-
dc.date.available2021-10-28T08:19:02Z-
dc.date.issued2021
dc.identifier.citationВзаимодействие излучений с твердым телом : материалы 14-й Междунар. конф., посвящ. 100-летию Белорус. гос. ун-та, Минск, Беларусь, 21-24 сент. 2021 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2021. – С. 335-339.
dc.identifier.issn2663-9939 (Print)
dc.identifier.issn2706-9060 (Online)
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/271122-
dc.descriptionСекция 3. Модификация свойств материалов = Section 3. Modification of material properties
dc.description.abstractЦелью работы являлось получение фундаментальных знаний о закономерностях формирования структурно-фазового состояния заэвтектического силумина, подвергнутого комплексной электронно-ионно-плазменной обработке, сочетающей нанесение пленки ZrTiCu толщиной 0.5 мкм с последующим облучением высокоинтенсивным импульсным электронным пучком. Материал исследования - силумин заэвтектического состава с содержанием кремния (22-24) вес.%. Модификация структурно-фазового состояния и свойств поверхностного слоя силумина осуществлялась методом «поверхностного легирования», реализуемого в едином вакуумном цикле при формировании системы «пленка/подложка» путем электродугового плазменно ассистированного распыления двух катодов состава Zr и Ti-12% Cu, с последующим облучением интенсивным импульсным электронным пучком на установке «КОМПЛЕКС» (ИСЭ СО РАН). Облучение системы «пленка/подложка» интенсивным импульсным электронным пучком позволило сформировать, вследствие сверхвысоких скоростей кристаллизации и последующего охлаждения (10 5 -10 6 К/с), тонкий поверхностный слой с субмикро- наноразмерной многоэлементной многофазной структурой, обладающий высокими значениями микротвердости и износостойкости
dc.description.sponsorshipРабота выполнена при финансовой поддержке гранта РФФИ (проект №19-52-04009)
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleФормирование высокопрочных поверхностных слоев в заэвтектических силуминах при электронно-ионно-плазменном воздействии
dc.title.alternativeFormation of high-strength near-surface layers in hypereutectic silumin alloys under electron-ion-plasma treatment / Elizaveta Petrikova, Yurii Ivanov, Anton Teresov, Vitalii Shymanskii
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeObtaining of fundamental knowledge about the formation regularities of structural-phase state of hypereutectic silumin subjected to complex electron-ion-plasma treatment, combines the deposition of a ZrTiCu film with a thickness of 0.5 μm followed by irradiation with a high-intensity pulsed electron beam is the aim of this work. Material under study is hypereutectic composition silumin with silicon content of (22-24) wt.%. The structural-phase state and properties modification of the silumin surface layer was carried out by the method of "surface alloying", implemented in a single vacuum cycle during the formation of the "film / substrate" system by electric arc plasma-assisted sputtering of two cathodes of the Zr and Ti-12% Cu composition, followed by intense pulsed electron beam treatment at the "COMPLEX" setup (HCEI SB RAS). The "film / substrate" system irradiation with an intense pulsed electron beam made it possible to form, due to ultrahigh crystallization rates and subsequent cooling (105-106 K/s), a thin surface layer with a submicro-nanoscale multi-element multi-phase structure with high values of microhardness and wear resistance
Располагается в коллекциях:2021. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
335-339.pdf770,89 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.