Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/271109
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorГончаров, В. К.
dc.contributor.authorГорбацевич, А. А.
dc.contributor.authorПузырев, М. В.
dc.contributor.authorСтупакевич, В. Ю.
dc.contributor.authorШульган, Н. И.
dc.date.accessioned2021-10-28T08:18:58Z-
dc.date.available2021-10-28T08:18:58Z-
dc.date.issued2021
dc.identifier.citationВзаимодействие излучений с твердым телом : материалы 14-й Междунар. конф., посвящ. 100-летию Белорус. гос. ун-та, Минск, Беларусь, 21-24 сент. 2021 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2021. – С. 43-46.
dc.identifier.issn2663-9939 (Print)
dc.identifier.issn2706-9060 (Online)
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/271109-
dc.descriptionСекция 1. Процессы взаимодействия излучения и плазмы с твердым телом = Section 1. Processes of Radiation and Plasma Interaction with Solids
dc.description.abstractВ работе изучено влияние материала мишени на физические процессы в лазерноплазменном источнике, который используется для нанесения наноструктур. Показано влияние материала подложки при взаимодействии ионного потока с ее поверхностью. Для плавной регулировки параметров наносимых частиц на подложку между лазерной мишенью и подложкой расположена сетка, на которую по отношению к лазерной мишени подается отрицательный потенциал. В результате после сетки формируется поток частиц, состоящий преимущественно из ионов, энергией которых можно надежно и плавно управлять, подавая на сетку по отношению к подложке положительный потенциал
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleВлияние материала лазерной мишени и подложки в лазерноплазменном источнике на формирование ионных потоков в режиме вторичной эмиссии
dc.title.alternativeInfluence of the material of a laser target and a substrate in a laser plasma source on the formation of ion flows in the secondary emission regime / V.K. Goncharov, A.A. Gorbatsevich, M.V. Puzyrev, N.I. Shulhan, V.Yu. Stupakevich
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeIn this work, we studied the influence of the target material on physical processes in a laser-plasma source. This source is used for deposition of nanostructures. The influence of the substrate material in the interaction of the ion flux with its surface is shown. A grid is located between the laser target and the substrate for smooth adjustment of the parameters of the particles deposited on the substrate. A negative potential is applied to the grid with respect to the laser target. As a result, after the grid, a flux of particles is formed, consisting mainly of ions. We smoothly and reliably can control the ions energy by applying a positive potential to the grid with respect to the substrate
Располагается в коллекциях:2021. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
43-46.pdf364,83 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.