Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/271089
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorПилько, В. В.
dc.contributor.authorПилько, В. В.
dc.date.accessioned2021-10-28T08:18:54Z-
dc.date.available2021-10-28T08:18:54Z-
dc.date.issued2021
dc.identifier.citationВзаимодействие излучений с твердым телом : материалы 14-й Междунар. конф., посвящ. 100-летию Белорус. гос. ун-та, Минск, Беларусь, 21-24 сент. 2021 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2021. – С. 201-205.
dc.identifier.issn2663-9939 (Print)
dc.identifier.issn2706-9060 (Online)
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/271089-
dc.descriptionСекция 2. Радиационные эффекты в твердом теле = Section 2. Radiation Effects in Solids
dc.description.abstractИзложены результаты исследования устойчивости сплавов алюминия, сталей и карбида кремния к блистерингу и флекингу при облучении ионами гелия с энергией 500 КэВ в диапазоне доз от 10 16 до 3·10 18 ион/cм2 и постимплантационном отжиге. Проведен расчет параметров процесса имплантации легких ионов. Образцы стали-3, нержавеющих сталей, сплава Д16Т и карбида кремния облучены ионами гелия. Методами растровой электронной микроскопии и оптической микроскопии в сочетании с интерференцией изучена структура поверхностных слоев облученных материалов непосредственно после облучения, и после термического отжига при температурах от 300 до 750 ºС. Определены дозовые и температурные диапазоны устойчивости к блистерингу и флекингу для всех изученных материалов. Рассмотрены основные виды нарушений структуры материалов
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleУстойчивость конструкционных материалов к блистерингу и флекингу при имплантации высокоэнергетичных ионов гелия и отжиге
dc.title.alternativeResistance of structural materials to blistering and flaking during implantation of high-energy helium ions and annealing / Vladimir Pilko, Vladimir Pilko
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeThe results of a study of the stability of aluminum, steel, and silicon carbide alloys to blistering and flaking upon irradiation with helium ions with an energy of 500 keV in the dose range from 10 16 to 3·10 18 ion/cm2 and post-implantation annealing are presented. The calculation of the parameters of the process of implantation of light ions is performed. Samples of steel-3, stainless steels, alloy D16T and silicon carbide are irradiated with helium ions. Using scanning electron microscopy and optical microscopy in combination with interference, we studied the structure of the surface layers of irradiated materials immediately after irradiation, and after thermal annealing at temperatures from 300 to 750 ºС. Dose and temperature ranges of resistance to blistering and flaking for all studied materials were determined. The main types of degradation of the structure of materials are considered
Располагается в коллекциях:2021. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
201-205.pdf695,79 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.