Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/271086
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorОгородников, Д. А.
dc.date.accessioned2021-10-28T08:18:54Z-
dc.date.available2021-10-28T08:18:54Z-
dc.date.issued2021
dc.identifier.citationВзаимодействие излучений с твердым телом : материалы 14-й Междунар. конф., посвящ. 100-летию Белорус. гос. ун-та, Минск, Беларусь, 21-24 сент. 2021 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2021. – С. 191-195.
dc.identifier.issn2663-9939 (Print)
dc.identifier.issn2706-9060 (Online)
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/271086-
dc.descriptionСекция 2. Радиационные эффекты в твердом теле = Section 2. Radiation Effects in Solids
dc.description.abstractС помощью программного комплекса «Silvaco» рассмотрено изменение распределения электрических полей в ячейках SiФЭУ с металлизированными разделительными канавками в результате облучения рентгеновскими квантами с энергией 10 кэВ дозой 10 5 рад. Ячейки представляли собой оптически изолированные друг от друга n+-p-p+ -структуры. Оптическая изоляция ячеек осуществлялась канавками, которые после пассивации стенок слоем SiО2 заполнялись вольфрамом. Вывод металла канавки электрически соединялся с n+ - областью ячейки. Облучение SiФЭУ проводилось при значениях обратного смещения Ub = -30 В и Ub = 0 В. Показано, что в активном режиме облучения напряженность электрического поля вблизи (5 нм) границы раздела SiО2 /р-Si увеличивается 5.1 раза, а в пассивном — 1.6 раза. Результаты объясняются влиянием электрического поля на величину выхода дырочного заряда в SiО2
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleМоделирование влияния рентгеновского излучения на распределение электрических полей в ячейке SiФЭУ с металлизированными разделительными канавками
dc.title.alternativeSimulating the impact of X-ray radiation on the distribution of the electric fields in SiPM cell with metallized dividing trenches / D.A. Ogorodnikov
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeWith the help of software complex «Silvaco» the change in distribution of electric fields in the cells of SiPM with metallized dividing trenches was considered. SiPM cells were irradiated with X-ray quanta with an energy of 10 keV until a dose of 10 5 rad. The cells represented optically isolated n+-p-p+ -structures. The optical isolation of the cells was represented as trenches, which were filled with tungsten, after their walls were passivated with a layer of SiO2. The metal output contact of the trench was electrically connected to the n+ -region of the cell. The SiPM was irradiated at the following electrical conditions: reverse bias Ub = -30 V (active mode) and Ub = 0 V (passive mode) It is shown that in the irradiation process in the active mode the electric field intensity near (5 nm) SiO2 /p-Si interface increased by a factor of 5.1, and in the passive mode – by a factor of 1.6. The results were explained by the influence of the electric field on the hole charge yield in SiO2
Располагается в коллекциях:2021. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
191-195.pdf627,29 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.