Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/271027
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorПавликов, А. В.
dc.contributor.authorШарафутдинова, А. М.
dc.contributor.authorРогов, А. М.
dc.contributor.authorСтепанов, А. Л.
dc.date.accessioned2021-10-28T08:18:41Z-
dc.date.available2021-10-28T08:18:41Z-
dc.date.issued2021
dc.identifier.citationВзаимодействие излучений с твердым телом : материалы 14-й Междунар. конф., посвящ. 100-летию Белорус. гос. ун-та, Минск, Беларусь, 21-24 сент. 2021 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. В. Углов (гл. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2021. – С. 485-488.
dc.identifier.issn2663-9939 (Print)
dc.identifier.issn2706-9060 (Online)
dc.identifier.urihttps://elib.bsu.by/handle/123456789/271027-
dc.descriptionСекция 4. Формирование наноматериалов и наноструктур = Section 4. Formation of nanomaterials and nanostructures
dc.description.abstractНанопористые слои Ge, сформированные имплантацией ионов Ag+ и Cu+ с энергией E=30 и 40 кэВ и дозами от 9.3·10 16 до 1.5·10 17 ион/см2, исследовались методами сканирующей электронной микроскопии и комбинационного рассеяния света (КРС). На основании данных КРС установлено, что полученные наноструктуры являются аморфными. Возбуждение КРС гелий-неоновым и аргоновым лазерами с интенсивностью более 300 Вт/см2 приводит к нагреву и последующей локальной кристаллизации облученных областей. Обнаружена зависимость порогов кристаллизации от условий имплантации и длины волны зондирующего лазера. Максимальный порог кристаллизации достигается при использовании гелий-неонового лазера для слоев, имплантированных Ag+, а минимальный - при исследовании аргоновым лазером образцов с Cu+
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleОпределение доли кристаллической фазы слоев германия, имплантированных ионами серебра и меди
dc.title.alternativeDetermination of the crystalline volume fraction in germanium layers implanted with silver and copper ions / Alexander V. Pavlikov, Alfia M. Sharafutdinova, Alexey M. Rogov, Andrey L. Stepanov
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeNanoporous layers of Ge were obtained by ion implantation of Ag+ and Cu+ with energies E = 30 and 40 keV and doses from 9.3·10 16 to 1.5·10 17 ion/cm2. The obtained nanostructures were studied by scanning electron microscopy and Raman scattering. According to the results of Raman scattering, it was established that Ge nanostructures were amorphous. Irradiation of nanostructures with helium-neon and argon lasers with an intensity of more than 300 W/cm2 leads to heating and subsequent local crystallization of the irradiated regions. The dependence of the crystallization thresholds on the conditions of implantation and the wavelength of the probe laser was found. The maximum crystallization threshold is reached when studying the layers implanted with Ag+ with a helium-neon laser, and the minimum when the samples implanted with Cu+ were treated with an argon laser
Располагается в коллекциях:2021. Взаимодействие излучений с твердым телом

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
485-488.pdf466,45 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.