Logo BSU

Статистика

Всего просмотров

Просмотров
Исследование электрофизических параметров тонкопленочных структур HfO2/Si, полученных реактивным ионно-лучевым распылением 90

Всего просмотров за месяц

января 2025 февраля 2025 марта 2025 апреля 2025 мая 2025 июня 2025 июля 2025
Исследование электрофизических параметров тонкопленочных структур HfO2/Si, полученных реактивным ионно-лучевым распылением 1 3 0 6 3 6 3

Загрузок файла

Просмотров
51-55.pdf 125

ТОП-просмотров по странам

Просмотров
Соединенные Штаты 28
Россия 18
Канада 15
Беларусь 8
Китай 3
Индия 3
Нидерланды 2
Австралия 1
Бразилия 1
Германия 1

ТОП-просмотров по городам

Просмотров
Ottawa 15
Minsk 7
Moscow 7
Oakland 5
Wilmington 4
Fairfield 3
Falls Church 2
Mountain View 2
Sacramento 2
Tomsk 2