Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/238415
Заглавие документа: Образование и отжиг радиационных дефектов в кремнии, имплантированном ионами водорода
Другое заглавие: Formation and annealing of radiation defects in silicon, implanted with hydrogen ions / Yu. M. Pokotilo, A. N. Petukh, A. V. Giro
Авторы: Покотило, Ю. М.
Петух, А. Н.
Гиро, А. В.
Тема: ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
Дата публикации: 2019
Издатель: Минск : БГУ
Библиографическое описание источника: Журнал Белорусского государственного университета. Физика = Journal of the Belarusian State University. Physics. - 2019. - № 3. - С. 68-72
Аннотация: Энергетический спектр уровней радиационных дефектов в эпитаксиальном кремнии n-типа, облученном ионами водорода с энергией 300 кэВ, исследовался при помощи метода DLTS (deep level transient spectroscopy). Обнаружено увеличение амплитуды пика DLTS с ростом температуры его регистрации, что свидетельствует об образовании областей скопления дефектов с невысокой плотностью смещения, меньшей исходного уровня легирования. После выдержки облученных образцов при комнатной температуре в течение нескольких месяцев данные области распадаются с образованием точечных изолированных А-, Е-центров и водородосодержащих дефектов с уровнем Ес – 0,31 эВ. Установлено, что комплексы с таким уровнем образуются путем присоединения к А-центру атомов водорода. При температуре Т > 150 °С этот дефект начинает отжигаться, и одновременно увеличивается концентрация А-центра.
Аннотация (на другом языке): Energy spectrum of radiation defect levels in n-type epitaxial silicon irradiated with 300 keV hydrogen ions was studied by DLTS (deep level transient spectroscopy) method. The increase in the amplitude of DLTS peak with the increase in the temperature of its registration was found. This indicates the formation of areas of defects accumulation with displacement density lower initial level of doping. After exposure of irradiated samples at room temperature for several months, these areas decay with isolated point A-, E-centers and hydrogen defects with an Ec – 0.31 eV level formation. It is shown that complexes with an Ec – 0.31 eV level are formed by attaching hydrogen atoms to A-center. At Т > 150 °С, this defect begins to anneal, and at the same time A-center concentration is increased.
URI документа: http://elib.bsu.by/handle/123456789/238415
ISSN: 2520-2243
DOI документа: 10.33581/2520-2243-2019-3-68-72
Лицензия: info:eu-repo/semantics/openAccess
Располагается в коллекциях:2019, №3

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
68-72.pdf412,25 kBAdobe PDFОткрыть
Показать полное описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.