Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/233817| Заглавие документа: | Исследование точности воспроизведения рисунка шаблона при электронно- и ионно-стимулированном осаждении вольфрама |
| Другое заглавие: | Studying the Accuracy of the Pattern Transfer during Electron- and Ion-Induced Deposition of Tungsten / Alena Kotosonova, Alexey Kolomiytsev |
| Авторы: | Котосонова, А. В. Коломийцев, А. С. |
| Тема: | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика |
| Дата публикации: | 2019 |
| Издатель: | Минск : БГУ |
| Библиографическое описание источника: | Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of Radiation with Solids : материалы 13-й Междунар. конф., Минск, Беларусь, 30 сент. – 3 окт. 2019 г. / редкол.: В. В. Углов (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2019. – С. 395-397. |
| Аннотация: | Представлены результаты экспериментальных исследований процессов формирования наноразмерных структур вольфрама методами электронно- и ионно-стимулированного осаждения. Cформированы массивы структур с заданными размерами от 10 до 250 нм. Установлено, что полученные размеры структур отличаются от заданных значений на величину от 10% до 400%. Показано, что точность переноса топологического рисунка при электронно-стимулированном осаждении в 2-5 раз выше, чем при ионно-стимулированном осаждении. Определено, что величина отклонения размеров структур от заданных при электронно-стимулированном осаждении практически постоянна и составляет примерно 45 нм, что позволяет при формировании структур от 50 до 300 нм производить соответствующую корректировку на этапе формирования растровых шаблонов, что позволит существенно снизить величину отклонения. Полученные результаты могут быть использованы при разработке технологических процессов изготовления и проектировании конструкции приборов и структур наноэлектроники, микро- и наносистемной техники. |
| Аннотация (на другом языке): | The results of experimental studies of the formation of nanoscale tungsten structures by electron and ion-induced deposition are presented. The formation of structures by electron and ion-induced deposition was carried out using raster graphic patterns formed in the system control software and defining the trajectories of electron and ion beams. Experimental studies were performed using a Nova NanoLab 600 scanning electron-ion microscope equipped with a gas-injection system. Silicon SEP-4.5 was used as a substrate. In the course of research, W (CO) 6 gas was injected into the vacuum chamber through an injector, which under the action of a stream of accelerated particles decomposed into solid tungsten and volatile components. As a result of carrying out the process with an accelerating ion beam voltage of 30 keV, an ion beam current of 1 pA, an electron beam current of 33 pA, and a beam exposure time of 1 ms, arrays of structures with specified sizes from 10 to 250 nm are formed. It is established that the obtained sizes of the structures differ from the given values by a value from 10% to 400%. It is shown that the transfer accuracy of the topological pattern in electron-induced deposition is 2-5 times higher than in ion-induced deposition. It was determined that the deviation of the sizes of the structures from the ones specified in the electron-stimulated deposition is almost constant and amounts to approximately 45 nm, which allows, during the formation of structures from 50 to 300 nm, to make a corresponding adjustment at the stage of forming raster patterns, which will significantly reduce deviations. The results obtained can be used in the development of technological processes of manufacturing and the design of the devices and structures of nanoelectronics, micro- and nanosystems technology. |
| Доп. сведения: | Секция 4. Формирование наноматериалов и наноструктур = Section 4. Formation of Nanomaterials and Nanostructures |
| URI документа: | http://elib.bsu.by/handle/123456789/233817 |
| ISSN: | 2663-9939 |
| Финансовая поддержка: | Результаты были получены с использованием оборудования Научно-образовательного центра «Нанотехнологии» Южного Федерального Университета. Исследование выполнено за счет гранта Российского научного фонда (проект №18-79-00175). |
| Располагается в коллекциях: | 2019. Взаимодействие излучений с твердым телом = Interaction of Radiation with Solids |
Полный текст документа:
| Файл | Описание | Размер | Формат | |
|---|---|---|---|---|
| 395-397.pdf | 360,15 kB | Adobe PDF | Открыть |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.