Микроструктура и фазовый состав многослойных покрытий ZrN/SiNx , сформированных методом реактивного магнетронного осаждения

Abstract

В работе исследованы микроструктура и фазовый состав многослойных наноразмерных покрытий ZrN/SiNx с различными толщинами отдельных слоев ZrN и SiNx. С помощью просвечивающей электронной микроскопии высокого разрешения установлено, что исследуемые покрытия, сформированные методом реактивного магнетронного осаждения, представляют собой чередующиеся слои ZrN и SiNx. Метод рентгеновской рефлектометрии позволил определить плотность, толщину, а также шероховатость поверхности отдельных слоев ZrN и SiNx. Рентгеноструктурный анализ показал, что слои ZrN и SiNx обладают кристаллической и аморфной структурой соответственно. Фазовый состав мононитридных покрытий ZrN характеризуется наличием фазы ZrN с преимущественной ориентацией (111). Результаты исследований фазового состава указывают на изменение преимущественной ориентации от (111), наблюдаемой для мононитридной пленки ZrN, к (200), которая образуется при формировании многослойных покрытий ZrN/SiNx.