Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/228439
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorАнискевич, Е. Н.-
dc.contributor.authorЧулкин, П. В.-
dc.contributor.authorРагойша, Г. А.-
dc.contributor.authorСтрельцов, Е. А.-
dc.date.accessioned2019-08-22T09:15:46Z-
dc.date.available2019-08-22T09:15:46Z-
dc.date.issued2015-
dc.identifier.citationСвиридовские чтения : сб. ст. Вып. 11. — Минск : БГУ, 2015. — С. 17-24ru
dc.identifier.isbn978-985-566-165-9-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/228439-
dc.description.abstractМетодами циклической вольтамперометрии и потенциодинамической электрохимической импедансной спектроскопии исследованы процессы подпотенциального катодного осаждения Pb, Bi, In, Sn, Zn, Cd и Cu на поверхность пленочных поликристаллических Te-электродов, электрохимически сформированных на поликристаллической Au-подложке. Установлена линейная корреляция между величиной подпотенциального сдвига катодного осаждения и энергией Гиббса образования соответствующих теллуридов. В исследованных процессах в отличие от подпотенциального осаждения металлов на металлы не наблюдается корреляция величины подпотенциального сдвига с разностью работ выхода электрона из подложки и осаждаемого металла.-
dc.language.isoruru
dc.publisherМинск : БГУru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Химия-
dc.titleЗависимость подпотенциального сдвига катодного осаждения металлов на теллур от энергии Гиббса образования теллуридовru
dc.typearticleru
dc.rights.licenseCC BY 4.0ru
dc.description.alternativeUnderpotential deposition of Pb, Bi, In, Sn, Zn, Cd and Cu on polycrystalline Te film electrodes formed by cathodic deposition on polycrystalline Au substrate has been investigated by cyclic voltammetry and potentiodynamic electrochemical impedance spectroscopy. A linear correlation has been observed between the underpotential shift of the cathodic deposition and Gibbs energy of formation of the corresponding metal telluride. Contrary to the case of metal underpotential deposition on foreign metal substrates, no correlation was observed between the underpotential shifts and differences of work functions of the substrate and the deposited metal.-
Располагается в коллекциях:Выпуск 11

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
17-24.pdf332,81 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.