Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/215252
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorЛобанок, М. В.
dc.contributor.authorПрокопьев, С. Л.
dc.contributor.authorНовиков, А. Г.
dc.contributor.authorМильчанин, О. В.
dc.contributor.authorДолгий, А. Л.
dc.contributor.authorБондаренко, В. П.
dc.contributor.authorГайдук, П. И.
dc.date.accessioned2019-02-21T13:28:22Z-
dc.date.available2019-02-21T13:28:22Z-
dc.date.issued2018
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 285-290.
dc.identifier.isbn978-985-566-671-5
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/215252-
dc.descriptionНанотехнологии, наноструктуры, квантовые явления. Наноэлектроника. Приборы на квантовых эффектах
dc.description.abstractМетодами резерфордовского обратного рассеяния, растровой электронной микроскопии и просвечивающей электронной микроскопии исследованы слои SiC на Si с буферными слоями пористого кремния, выращенные при высокотемпературном отжиге в вакууме. Методами электронной микроскопии и электронной дифракции обнаружено формирование слоев кубического карбида кремния в виде двухфазной системы – моно- и поликристаллической фазы. Показано, что в результате высокотемпературной обработки происходит образование зерен SiC в порах, а также происходит частичное зарастание пор. Показано, что изменение размера пор изначального пористого слоя приводит к изменению размеров зерен на поверхности и времени зарастания пор.
dc.description.sponsorshipИсследования выполнены в рамках проекта 3.2.03 ГПНИ «Фотоника, опто- и микроэлектроника», номер госрегистрации 20162098.
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleВлияние буферного слоя пористого кремния на рост карбида кремния на кремниевой подложке
dc.title.alternativeInfluence of the porous buffer layer on the growth of silicon carbide on silicon substrate / M. V. Lobanok, S. L. Prakopyeu, A. G. Novikau, O. V. Milchanin, A. L. Dolgiy, V. P. Bondarenko, P. I. Gaiduk
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeSiC layers on Si with buffer layers of porous silicon grown in high-temperature annealing in vacuum have been investigated by methods of Rutherford backscattering, scanning electron microscopy and transmission electron microscopy. Electron microscopy and electron diffraction revealed the formation of layers of cubic silicon carbide in the form of a two-phase system-a mono- and polycrystalline phase. SiC grains are formed in the pores and partial pore overgrowth takes place as a result of high-temperature treatment. The change in the pore size of the original porous layer leads to a change in the grain size at the surface and the time of pore over growth.
Располагается в коллекциях:2018. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
285-290.pdf550,09 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.