Logo BSU

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ: https://elib.bsu.by/handle/123456789/215209
Полная запись метаданных
Поле DCЗначениеЯзык
dc.contributor.authorТашлыкова-Бушкевич, И. И.
dc.contributor.authorМойсейчик, Е. С.
dc.contributor.authorЛобач, Р. Д.
dc.contributor.authorСуходольский, Д. В.
dc.date.accessioned2019-02-21T13:28:15Z-
dc.date.available2019-02-21T13:28:15Z-
dc.date.issued2018
dc.identifier.citationМатериалы и структуры современной электроники : материалы VIII Междунар. науч. конф., Минск, 10–12 окт. 2018 г. / Белорус. гос. ун-т ; редкол.: В. Б. Оджаев (отв. ред.) [и др.]. – Минск : БГУ, 2018. – С. 111-117.
dc.identifier.isbn978-985-566-671-5
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/215209-
dc.descriptionСвойства, диагностика и применение полупроводниковых материалов и структур на их основе
dc.description.abstractВ данной работе рассмотрены вопросы, касающиеся анализа поверхностного нанорельфа, а также взаимосвязь параметров шероховатости тонких металлических пленок с их физико-химическими свойствами. Показано, как компьютерная обработка полученных с помощью атомно-силовой микроскопии изображений поверхности тонких пленок молибдена на стекле позволяет получить количественную информацию о поперечных и продольных характеристиках шероховатости поверхности, а также распределении высот и впадин нанорельефа в зависимости от условий формирования покрытий. Предложено использование нового исследовательского гибридного параметра k, который количественно характеризует форму неровностей профиля. Установленная зависимость равновесного краевого угла смачивания пленок водой от k демонстрирует, что смачиваемость системы Mo/подложка определяется особенностями нанорельефа поверхности.
dc.description.sponsorshipРабота частично финансировалась в рамках ГПНИ на 2016–2020 г. «Физическое материаловедение, новые материалы и технологии» (подпрограмма «Материаловедение и технологии материалов», задание 1.40, № ГР 20161123). Авторы благодарны О. Г. Бобровичу (БГТУ), О. М. Михалковичу и Ю. С. Яковенко (БГПУ) за помощь при получении образцов методом ионно-ассистированного осаждения в условиях самооблучения и проведении АСМ измерений.
dc.language.isoru
dc.publisherМинск : БГУ
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика
dc.titleКоличественный анализ нанорельефа поверхности металлических пленок на стекле по данным сканирующей зондовой микроскопии
dc.title.alternativeQuantitative analysis of surface nanorelief of metallic films on glass substrate using scanning probe microscopy data / I. I. Tashlykova-Bushkevich, E. S. Moyseychik, R. D. Lobach, D. V. Sukhodolsky
dc.typeconference paper
dc.description.alternativeThis work considers questions related to the analysis of surface nanorilief and a relationship between the roughness parameters of thin metallic films and their physicochemical properties. It is shown how computer processing of atomic-force microscopy images of surface of thin molybdenum films on glass allows obtaining the quantitative information on amplitude and spacing characteristics of surface roughness as well as a distribution of nanorelief heights and valleys depending on deposition conditions of the coatings. New research hybrid parameter k is proposed to quantitatively characterize the shape of surface profiles. The revealed dependence of equilibrium water contact angle of the films on k shows that surface wettability of Mo/substrate system is affected by features of surface nanorelief.
Располагается в коллекциях:2018. Материалы и структуры современной электроники

Полный текст документа:
Файл Описание РазмерФормат 
111-117.pdf891,37 kBAdobe PDFОткрыть
Показать базовое описание документа Статистика Google Scholar



Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.