Please use this identifier to cite or link to this item:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/214571Full metadata record
| DC Field | Value | Language |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Шиманский, Виталий Игоревич | - |
| dc.date.accessioned | 2019-02-14T07:10:02Z | - |
| dc.date.available | 2019-02-14T07:10:02Z | - |
| dc.date.issued | 2013 | - |
| dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/214571 | - |
| dc.description | Работа выполнена в Белорусском государственном университете. Научный руководитель - Углов Владимир Васильевич, доктор физико-математических наук, профессор, заведующий кафедрой физики твердого тела Белорусского государственного университета. | ru |
| dc.description.abstract | Целью работы являлось установление закономерностей, особенностей и механизмов формирования структурно-фазового состояния, изменения элементного состава и микротвердости в поверхностных слоях титана, легированного атомами металлов из различных групп стабилизаторов в результате их нанесения в виде покрытий и последующего воздействия компрессионными плазменными потоками и сильноточными электронными пучками. | ru |
| dc.language.iso | ru | ru |
| dc.publisher | Минск | ru |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | ru |
| dc.title | Структурно-фазовое состояние титана, легированного атомами Mo, Cr, Ni, Zr И Al при воздействии компрессионными плазменными потоками и сильноточными электронными пучками : автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук : 01.04.07 / Шиманский Виталий Игоревич; Белорусский государственный университет | ru |
| dc.type | doctoral thesis | ru |
| Appears in Collections: | Авторефераты кандидатских диссертаций, защищенных в Совете Д 02.01.16 (до 2016 г.) Авторефераты кандидатских диссертаций | |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| ref_Shymanskii.pdf | 573,34 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

