Динамика и механизмы фотоиндуцированных процессов в смешанных оксидах молибдена, ванадия и вольфрама слоистого строения : отчет о научно-исследовательской работе (заключительный) / БГУ ; научный руководитель Т. В. Свиридова

Abstract

Объектом настоящего исследования являлись фоточувствительные оксидно-гидроксидные соединения молибдена, вольфрама и ванадия, а также пленки на их основе, получаемые из водных растворов соответствующих оксокислот. Цель НИР состояла в установлении механизма фотокаталитической активности индивидуальных и смешанных оксидов молибдена, ванадия и вольфрама слоистого строения в процессах фотоиндуцированной поликонденсации в растворе и твердой фазе и возможности формирования на их основе фоточувствительных пленочных материалов для практических приложений современной микроэлектроники. Методы исследования: сканирующая электронная микроскопия, ИК-спектроскопия, гравиметрические методы, ионометрические методы, оптическая спектроскопия. В результате выполнения работы изучены закономерности термостимулированной поликонденсации индивидуальных и смешанных оксокислот молибдена, вольфрама и ванадия в водной среде. Обоснованы температурно-временные режимы получения из водных растворов оксокислот дисперсных фаз и пленочных структур. Изучены особенности фотоиндуцированной полимеризации оксидно-гидроксидных индивидуальных и смешанных соединений молибдена, вольфрама и ванадия, а также возможности их избирательного травления в среде различных растворителей кислотной и щелочной природы. Обоснована возможность использования пленочных структур оксидно-гидроксидных соединений переходных элементов в качестве перспективных фоторезистов для практических приложений планарных микротехнологий. Продемонстрирована возможность использования тонких пленок смешанного молибден-ванадиевого оксида в качестве неорганического фоторезистного материала для получения высокоустойчивых рисунков-масок. В основе фоточувствительности систем такого рода лежит фотоиндуцированная поликонденсация олигомеров смешанных полиоксокислот в пленках ксерогеля V2O5:MoO3.