Разработка физико-технологических методов формирования и контроля электрофизических, оптических, механических и структурных характеристик функциональных наноструктур на основе кремния и его оксидов : отчет о научно-исследовательской работе (заключительный) / БГУ ; научный руководитель В. С. Просолович

Abstract

Объектом исследований являлись наноструктуры полимер/SiO2/ кремний. Цель НИР - разработка физико-технологических методов формирования функциональных наноструктур на основе кремния и его оксидов, используемых в микро- и наномеханических системах, а также в приборах опто-, микро- и наноэлектроники и диагностика их эксплуатационных параметров. Основные методы исследований - ИК поглощение, склерометрия, индентирование, атомно-силовая микроскопия. В результате установлено, что ионная имплантация приводит к снижению микротвердости вблизи границы раздела фоторезист/окисел кремния, что обусловлено ухудшением адгезионного взаимодействия полимера с SiO2. В процессе ионной имплантации происходит модификация морфологии поверхности фоторезиста ФП2190, выражающаяся в формировании неравномерно распределенных по поверхности конусообразных структур, которые обусловлены релаксацией напряжений, образовавшихся в процессе изготовления полимерной пленки. Установлено, что в наноструктурах сополимер метакриламид/метилметакрилат-SiO2- кремний при нагрузках ~ 20 г имеет место переход от упругой к пластической деформации. Обнаружено, что метод царапания ребром четырехгранной алмазной пирамиды пригоден для измерения микротвердости фоторезистивных пленок наноструктур полимер/SiO2/ кремний. При этом рекомендуемые нагрузки составляют 1 – 2 г. Полученные результаты являются основой для разработки методов формирования и контроля электрофизических, оптических, механических и структурных характеристик функциональных наноструктур, используемых в микромеханических системах и приборах опто- и наноэлектроники.