Управляемое магнетронное осаждение пленок оскида тантала с электретными свойствами

Abstract

The algorithms of the control of the oxygen flow for the processes of the magnetron deposition of the tantalum oxide films are considered. The algorithms which use the influence of the oxygen flow on the electrical characteristics of the discharge and on the optical emission of the discharge plasma are compared. The results of the determination of the optical characteristics and of the elemental composition of the films are considered. The method of the electret charge forming in the tantalum oxide films directly during the process of its magnetron deposition is suggested. The results of the measurement of the electret potential and of the time of its relaxation are represented. = Рассматриваются алгоритмы управления расходом кислорода в процессах магнетронного осаждения пленок оксида тантала. Сравниваются алгоритмы, использующие влияние расхода кислорода на электрические характеристики разряда и оптическую эмиссию его плазмы. Рассмотрены результаты определения оптических характеристик и элементного состава пленок. Предлагается методика формирования электретного заряда в пленках оксида тантала непосредственно в процессе их магнетронного осаждения. Представлены результаты измерения электретного потенциала и времени его релаксации.