Формирование на графите металлсодержащих покрытий в условиях ионного ассистирования

Abstract

В данной работе рассматривается влияние технологических параметров формирования металлсодержащих покрытий методом ионно-ассистированного нанесения покрытий на кинетику роста тонких пленок. Для создания металлсодержащих покрытий использовали резонансный ионный источник вакуумной электродуговой плазмы, который генерирует как нейтральный поток JA, так и ионный поток Ji частиц наносимого металла. Анализ толщины наносимого металлсодержащего покрытия, состава покрытий и распределение элементов в покрытии по глубине проводили с применением методов резерфордовского обратного рассеяния. Рост металлсодержащих покрытий происходит, когда соотношение 0<Ji/JA <1 , при котором обеспечивается взаимопроникновение компонентов подложки и покрытия и, следовательно, адгезия покрытия к подложке осуществляется на атомном уровне.