Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/206813
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Погребняк, А. Д. | - |
dc.contributor.author | Кульментьева, О. П. | - |
dc.contributor.author | Марку, А. | - |
dc.contributor.author | Лебедь, А. Г. | - |
dc.date.accessioned | 2018-10-09T11:23:35Z | - |
dc.date.available | 2018-10-09T11:23:35Z | - |
dc.date.issued | 2003 | - |
dc.identifier.citation | Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы V междунар. науч. конф., 6-9 окт. 2003 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2003. — С. 73-75. | ru |
dc.identifier.isbn | 985-445-236-0; 985-445-235-2 | - |
dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/206813 | - |
dc.description.abstract | В работе представлены результаты осаждения пленок высокотемпературных сверхпроводников на основе YBa2Cu3O7-x из абляционной плазмы, получаемой при импульсном лазерном воздействии на мишень и направляемой с помощью специальных рефлектора и маски на подложку. Показано, что качество получаемых пленок зависят от угла отражения плазмы, расположения подложки и толщины пленки. Изучена морфология поверхности получаемых пленок к определены шероховатость и толщина пленки в зависимости от угла отражения абляционной плазмы. | ru |
dc.language.iso | ru | ru |
dc.publisher | Минск : БГУ | ru |
dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | ru |
dc.title | Получение пленок YBa2Cu3O7-x из абляционной плазмы, инициированной лазерным воздействием | ru |
dc.title.alternative | Production of YBa2Cu3O7-x films using laser plasma ablation / A.D.Pogrebnjak, O.P. Kul’ment’eva, A.Marcu, A.Lebed | ru |
dc.type | conference paper | ru |
dc.description.alternative | The results of deposition films of high-temperature superconducters on a base YBa2Cu3O7-x from ablation plasma by the pulse laser influence, which directed with help special reflector and a mask on the substrate are submitted. Ifs shown, that quality of films the arrangements of a substrate and thickness of a film depend on a corner of plasma reflection. The surface morphology of films is investigated and are determined the roughness and thickness of the film depending on a comer of reflection ablation plasma. | ru |
Располагается в коллекциях: | 2003. Взаимодействие излучений с твердым телом |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.