Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот документ:
https://elib.bsu.by/handle/123456789/206802Полная запись метаданных
| Поле DC | Значение | Язык |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | Бордусов, С. В. | - |
| dc.date.accessioned | 2018-10-09T10:01:57Z | - |
| dc.date.available | 2018-10-09T10:01:57Z | - |
| dc.date.issued | 2003 | - |
| dc.identifier.citation | Взаимодействие излучений с твердым телом: материалы V междунар. науч. конф., 6-9 окт. 2003 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2003. — С. 41-42. | ru |
| dc.identifier.isbn | 985-445-236-0; 985-445-235-2 | - |
| dc.identifier.uri | http://elib.bsu.by/handle/123456789/206802 | - |
| dc.description.abstract | Представлены результаты изучения влияния внешнего энергетического воздействия низкочастотным полем (f = 10 кГц) на степень химической активности плазмы СВЧ разряда ( f = 2,45 ГГц), возбуждаемой в реакторе объемного типа плазмотрона с аппликатором на базе резонатора прямоугольной формы. Исследовался процесс удаления фоторезистивных защитных покрытий с поверхности полупроводниковых пластин диаметром 100 мм. По результатам исследований установлено, что комбинированный разряд обладает преобладающей степенью химической активности по отношению к каждому из типов разряда в отдельности. | ru |
| dc.language.iso | ru | ru |
| dc.publisher | Минск : БГУ | ru |
| dc.subject | ЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физика | ru |
| dc.title | Исследование химической активности разряда в комбинации СВЧ и НЧ полей | ru |
| dc.title.alternative | Research of the discharge chemical activity in the combination of the microwave and low-frequency fields / S.V. Bordusov | ru |
| dc.type | conference paper | ru |
| dc.description.alternative | The results of studying the effect of the external energy influence of a low-frequency field (f = 10 KHz) on the degree of the chemical activity of the microwave discharge plasma (f = 2,45 GHz), excited in a volumetric type plasmatrone reactor with an applicator on the basis of a rectangular resonator ary submitted. The process of the removal of photoresistive protection coatings from the surface of semiconductor plates of 100 mm in diameter was studied. A combined discharge was excited in several ways: by a continuous low-frequency discharge and by an impulsing (50 Hz recurrence frequency) microwave discharge; by impulsing low-frequency and microwave frequency discharges synchronized in duration and follow-up period. The study established that the combined discharge possesses the prevalent degree of chemical activity with respect to each type of the discharges taken separately. | ru |
| Располагается в коллекциях: | 2003. Взаимодействие излучений с твердым телом | |
Все документы в Электронной библиотеке защищены авторским правом, все права сохранены.