Logo BSU

Please use this identifier to cite or link to this item: https://elib.bsu.by/handle/123456789/204253
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorГусаков, Г. А.-
dc.contributor.authorЖукова, С. И.-
dc.contributor.authorУхов, Н. В.-
dc.date.accessioned2018-08-27T06:18:30Z-
dc.date.available2018-08-27T06:18:30Z-
dc.date.issued2001-
dc.identifier.citationВзаимодействие излучений с твердым телом: материалы IV Междунар. науч. конф., 3-5 окт. 2001 г., Минск. — Мн.: БГУ, 2001. — С. 128-129ru
dc.identifier.isbn985-445-236-0-
dc.identifier.urihttp://elib.bsu.by/handle/123456789/204253-
dc.description.abstractМетодом Оже-электронной спектроскопии исследовано распределение основных легирующих сплав алюминия Д16 примесей при имплантации ионов сурьмы (Е=100 кэВ) и бора (Е=20 кэВ). Обнаружено увеличение концентрации атомов меди и магния в имплантированных ионами сурьмы слоях сплава. Имплантация ионов бора не приводит к перераспределению примесей.ru
dc.language.isoruru
dc.publisherМинск : БГУru
dc.subjectЭБ БГУ::ЕСТЕСТВЕННЫЕ И ТОЧНЫЕ НАУКИ::Физикаru
dc.titleПерераспределения примесей в сплаве алюминия при ионной имплантацииru
dc.title.alternativeImpurity redistribution in al alloy under ion implantation / G.A.Gusakov, S.I.Zhukova, N.V.Ukhovru
dc.typeconference paperru
dc.description.alternativeThe distribution of basic impurities doping Al alloy D16 during antimony ion implantation (E=100 keV) and boron ion implantation (E=20keV) has been investigated by Auger-electron spectroscopy. The increase of copper and magnesium atoms concentration has been found in layers implanted with antimony ions. Boron ion implantation doesn't cause the redistribution of impurities.ru
Appears in Collections:2001. Взаимодействие излучений с твердым телом

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
128-129.pdf512,46 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record Google Scholar



Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.